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J-GLOBAL ID：200903099885337009

光学的な開口の形成方法とその形成方法によって作製される近接場光デバイス

Inventor： 新輪 隆 ,  加藤 健二 ,  大海 学 ,  市原 進 ,  光岡 靖幸 ,  笠間 宣行 ,  前田 英孝 ,  篠原 陽子
Applicant, Patent owner： セイコーインスツルメンツ株式会社
Agent (1)： 坂上 正明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000377253
Publication number (International publication number)：2002181683
Application date： Dec. 12, 2000
Publication date： Jun. 26, 2002
Summary：

【要約】【課題】 本発明の課題は、近接場光の発生・検出源となる光学的な開口の形成方法とその形成方法によって作製された近接場光デバイスを提供することである。【解決手段】 錐状のチップと前記チップの近傍に配置され、前記チップと略同じ高さを有するストッパーと、少なくとも前記チップ上に形成された遮光膜からなる被開口形成体に対して、少なくとも前記チップおよび前記ストッパーの少なくとも一部を覆うような略平面を有する押し込み体を、前記チップに向かう成分を有する力によって変位させることによって、前記チップ先端に光学的な開口を形成することを特徴とする近接場光デバイスの製造方法とした。

Claim (excerpt)：

錐状のチップと、前記チップの近傍に配置され、前記チップと略同じ高さを有するストッパーと、少なくとも前記チップ上に形成された遮光膜からなる被開口形成体に対して、少なくとも前記チップおよび前記ストッパーの少なくとも一部を覆うような略平面を有する押し込み体を、前記チップに向かう成分を有する力によって変位させることによって、前記チップ先端に光学的な開口を形成する押し開け工程を含むことを特徴とする近接場光デバイスの製造方法。

IPC (2)：

G01N 13/14 ,  G12B 21/06

FI (2)：

G01N 13/14 B ,  G12B 1/00 601 C