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J-GLOBAL ID：200903099891023520

有害ガスの検知システム

Inventor： 石井 康 ,  畠山 俊哉
Applicant, Patent owner： 日本パイオニクス株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992169103
Publication number (International publication number)：1994011499
Application date： Jun. 26, 1992
Publication date： Jan. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】半導体製造プロセスにおける原料ガス供給配管系、リアクター廻りの配管系、排ガス排出配管系の有害ガス残留の有無を確認する。【構成】各配管系にバイパス管を設け、これに有害ガスと接触して変色する検知剤を充填した覗窓付の容器を介在させ、配管系パージ後のガスを通して検知剤と接触せしめる。

Claim (excerpt)：

半導体製造工程におけるガスの配管系内に残留する有害ガスの検知システムであって、該配管系に接続されたパージガスの抜き出し管と、該抜き出し管に設けられたパイパス管と、該バイパス管に介在せしめられた覗窓付の検知剤容器であって、内部に有害ガスと接触することによって変色する検知剤が充填された検知剤容器とを備えてなり、配管系内にパージガスを流し、該抜き出し管を経て所定のパージをおこなった後、抜き出し管を流れるガスを検知剤容器に導き、検知剤と接触させることによって該配管系内の有害ガス残留の有無を識別することを特徴とする有害ガスの検知システム。