Pat

J-GLOBAL ID：200903099915301004

耐熱性感光性重合体組成物及びレリーフパターンの製造法

Inventor： 布村 昌隆 ,  西尾 繁 ,  佐々木 守 ,  内村 俊一郎
Applicant, Patent owner： 日立化成工業株式会社
Agent (1)： 若林 邦彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997047457
Publication number (International publication number)：1998239842
Application date： Mar. 03, 1997
Publication date： Sep. 11, 1998
Summary：

【要約】【課題】 感度が高く、現像時間を短くでき、形成された膜の諸特性、特に、基板との接着性が良いポジ型の耐熱性感光性重合体組成物及びレリーフパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (a)一般式(I)【化1】(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示し、R3は1価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸エステル、(b)一般式(II)【化2】(式中、R4は4価の有機基を示し、R5は2価の有機基を示し、R6は1価の有機基を示し、qは1以上の整数を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸、並びに(c)o-キノンジアジド化合物を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物及びこの耐熱性感光性重合体組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程、露光する工程、現像する工程及び加熱処理する工程を含むレリーフパターンの製造法。

Claim (excerpt)：

(a)一般式(I)【化1】(式中、R1は4価の有機基を示し、R2はカルボキシル基又はフェノール性水酸基を有する2価の有機基を示し、R3は1価の有機基を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸エステル、(b)一般式(II)【化2】(式中、R4は4価の有機基を示し、R5は2価の有機基を示し、R6は1価の有機基を示し、qは1以上の整数を示す)で表される繰り返し単位を有するポリアミド酸、並びに(c)o-キノンジアジド化合物を含有してなる耐熱性感光性重合体組成物。

IPC (7)：

G03F 7/037 501 ,  C08G 63/20 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312

FI (7)：

G03F 7/037 501 ,  C08G 63/20 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/075 511 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/312 B ,  H01L 21/30 502 R