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J-GLOBAL ID：200903099955086645

プラズマ処理装置

Inventor： 塚田 勉 ,  庄司 多津男
Applicant, Patent owner： 日電アネルバ株式会社 ,  庄司 多津男
Agent (1)： 大垣 孝
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993037640
Publication number (International publication number)：1994248459
Application date： Feb. 26, 1993
Publication date： Sep. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 円筒状の誘電体材料から成る容器11と、この容器の周方向の外周に設けられ第1のループ状アンテナ13a及び第2のループ状アンテナ13bで構成されたアンテナ13と、容器11の軸方向aに磁場を形成する磁場発生手段19とを有するヘリコン波イオン源を具える、ヘリコン波を利用したプラズマ処理装置であって、従来に比べ飽和イオン電流密度分布の均一性の向上が図れる装置を提供すること。【構成】 容器11の周方向に沿う外壁とアンテナ13との間の領域に、複数個の導電体100aでそれぞれは容器の軸方向aに延在しておりかつ接地電位とされ然も容器の周方向に沿って間隙100bをもって配置された複数個の導電体で構成したシールド体100を、設ける。

Claim (excerpt)：

所定ガスが導入される中空部を有し誘電体材料で構成されている容器と、該容器の周囲に設けられ該容器の中空部に所定方向に向かう磁場を形成するための磁場発生手段と、前記容器の周囲に設けられ前記容器の中空部に高周波電界を形成するためのアンテナとを有するヘリコン波イオン源を具えるプラズマ処理装置において、容器の外周に、アンテナの高周波電力給電点間に生じる電位差に起因する局所的な電位分布が前記容器側に及ぶのを防止または軽減するためのシールド体を具えたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5)：

C23C 16/50 ,  B01J 19/08 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302 ,  H05H 1/24

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 立体駐車設備
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-080415   Applicant：株式会社ダイフク
• 特開平3-068773
  
• 特開平4-290428