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J-GLOBAL ID:200904097995323543  Research Project code:0250001978 Update date:May. 12, 2009

全体配列制御を用いた先進プロセスに関する研究 金属・半導体材料の自己組織化を利用したプロセスに関する研究 水素原子をトリガーとしたヘテロ界面初期構造の全体配列に関する研究

全体配列制御を用いた先進プロセスに関する研究 金属・半導体材料の自己組織化を利用したプロセスに関する研究 水素原子をトリガーとしたヘテロ界面初期構造の全体配列に関する研究
Study period:2000 - 2004
Organization (1):
Investigating Researcher (1):
Research field (1): Other
Project Organization (1):
  • 理化学研究所(0292513037)
Researcher representative of the project  (1):
  • 主任研究員 青野 正和(表面界面工学研究室)

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