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J-GLOBAL ID：200909088294882512
JST material number (FULL)：N20001203D
JST material number：N20001203
高密度プラズマを用いた大面積多結晶シリコン薄膜の低温形成 平成9-11年度 No.09558055
JST material number：
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Identifier of Material (journals)
N20001203
Material type：Article, Print, zz
Publication frequency： zz
Country of issued：Japan(JPN)
Language (2)：
Japanese(JA)
, English(EN)
Publisher：
文部省
Publication place：東京
JST library information (0)：
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