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J-GLOBAL ID：201002022949035235   Reference number：79A0345752

Copper sulfide films deposited by cylindrical magnetron reactive sputtering.

同筒型マグネトロン反応性スパッタリングにより蒸着した硫化銅膜
Author (4)：
JONATH A D

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Material：
J Vac Sci Technol  (Journal of Vacuum Science & Technology)

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Volume： 16  Issue： 2  Page： 200-203  Publication year： 1979 
JST Material Number： C0789A  ISSN： 0022-5355  CODEN： JVSTA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)
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