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J-GLOBAL ID：201002057541743663   Reference number：78A0262166

Crystallographic study of semi-insulating polycrystalline silicon (SIPOS) doped with oxygen atoms.

酸素原子をドープした半絶縁多結晶シリコン(SIPOS)の結晶学的研究

Author (4)： HAMASAKI M ,  ADACHI T ,  WAKAYAMA S ,  KIKUCHI M
Material： J Appl Phys  (Journal of Applied Physics)
Volume： 49  Issue： 7  Page： 3987-3992  Publication year： 1978 
JST Material Number： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： 酸素原子 ,...

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Terms in the title (6)： 酸素原子 ,  ドープ ,  半絶縁 ,  多結晶シリコン ,  結晶学 ,  研究