Art

J-GLOBAL ID：201002071574260156   Reference number：77A0287132

Large-area uniform growth of 〈100〉 Si through Al film by solid epitaxy.

固相エピタキシーによるAl膜を通しての〈100〉Siの大面積均一成長

Author (2)： MAJNI G ,  OTTAVIANI G
Material： Appl Phys Lett  (Applied Physics Letters)
Volume： 31  Issue： 2  Page： 125-126  Publication year： 1977 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLA  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： エピタクシー ,...

   To see more with JDream III (charged).   {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=77A0287132&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=H0613A") }}

Terms in the title (5)： 固相エピタキシー ,  Al膜 ,  Si ,  大面積 ,  成長