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J-GLOBAL ID：201002201764507124   Reference number：10A0264581

Plasmonics for extreme light concentration and manipulation

極めて強い光濃縮とマニピュレーションのためのプラズモニクス

Author (6)： SCHULLER Jon A. (Geballe Lab. Advanced Materials, California, USA) ,  BARNARD Edward S. (Geballe Lab. Advanced Materials, California, USA) ,  CAI Wenshan (Geballe Lab. Advanced Materials, California, USA) ,  JUN Young Chul (Geballe Lab. Advanced Materials, California, USA) ,  WHITE Justin S. (Geballe Lab. Advanced Materials, California, USA) ,  BRONGERSMA Mark L. (Geballe Lab. Advanced Materials, California, USA)
Material： Nature Materials  (Nat Mater)
Volume： 9  Issue： 3  Page： 193-204  Publication year： Mar. 2010 
JST Material Number： W1364A  ISSN： 1476-1122  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *plasmon ,  surface plasmon ,  hyperfine interaction ,  metal ,  ultrafine particle ,  *quantum optics ,  solid state device ,  lithography ,  nonlinear optical material ,  nonlinear optics ,  technological review ,  photonic crystal

JST classification (3)： Quantum optics in general  (BD04010X) ,  Solid-state plasmas  (BM02160W) ,  Other solid-state devices  (NC03150A)

Terms in the title (3)： 濃縮 ,  マニピュレーション ,  プラズモニクス