Art

J-GLOBAL ID：201002211136911205   Reference number：10A1190338

Suppression of reaction between si substrate and obliquely deposited Fe atoms

Si基板と斜め蒸着Fe原子との反応の抑制

Author (4)： JOMORI S ,  SUZUKI M ,  NAKAJIMA K ,  KIMURA K
Material： KINETICS-DRIVEN NANOPATTERNING ON SURFACES
Page： 127-132  Publication year： 2005 
JST Material Number： I20050617  ISSN： 0272-9172  ISBN： 1-55899-797-0  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (4)： Si基板 ,  斜め蒸着 ,  Fe ,  原子