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J-GLOBAL ID：201002221287153618   Reference number：10A0404028

II型シリコンクラスレートの合成における副生成物の生成に対する合成プロセスの影響

Author (12)： SUZUKI TAKATOSHI ,  UENO HIROYUKI ,  BABA TATSUYA ,  KOKETSU RYUZO ,  OHASHI FUMITAKA ,  BAN TAKAYUKI ,  OYA YUTAKA ,  KUME TETSUJI ,  NATSUHARA HIRONORI ,  NONOMURA SHUICHI ,  IIDA TAMIO ,  HABUCHI HITOE
Material： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
Volume： 90th  Issue： 2  Page： 505  Publication year： Mar. 12, 2010 
JST Material Number： S0493A  ISSN： 0285-7626  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *silicon ,  *clathrate compound ,  *by-product ,  *heat treatment ,  chemical synthesis ,  production process (control) ,  super molecule structure ,  molecular cluster ,  diamond type crystal ,  Vacuum ,  X-Ray Diffraction ,  temperature dependence ,  time dependence ,  chemical composition ,  crystal structure ,  cage structure ,  diamond structure
Semi thesaurus term： clathrate compound ,  *byproduct

JST classification (1)： Molecular compounds  (CE02000C)

Terms in the title (3)： シリコンクラスレート ,  副生成物 ,  プロセス