Art

J-GLOBAL ID：201002229654819700   Reference number：10A0449080

高分子フォトニクス 高分子ブロック共重合体を用いたフォトニック結晶の創成

Author (1)： OKAMOTO SHIGERU (名古屋工大 大学院工学研究科)
Material： 高分子  (Polymers)
Volume： 59  Issue： 5  Page： 334-335  Publication year： May. 01, 2010 
JST Material Number： F0168A  ISSN： 0454-1138  CODEN： KOBUA3  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *block copolymer ,  characteristic ,  high molecular weight ,  polystyrene ,  Polymethyl Methacrylate ,  microphase separation ,  microdomain ,  *confinement ,  cyclic ether ,  *photonic crystal ,  *light confinement ,  ultra high molecular weight ,  nonlinear optical property
Semi thesaurus term： *高分子フォトニクス

JST classification (3)： Crystal structure of polymers  (BK10000K) ,  Photochemistry in general  (CB08010U) ,  Copolymerization  (CG04030D)

Substance index (1)： Tetrahydrofuran

Reference (12)：

• KELLER, A. Nature. 1970, 225, 538
• HADZIIOANNOU, G. Colloid Polym. Sci. 1979, 257, 136
• OKAMOTO, S. Macromolecules. 1994, 27, 1177
• OKAMOTO, S. Macromolecules. 1994, 27, 3753
• LE MEUR, J. J. Phys (Paris). 1971, 32, 10, 301

Terms in the title (5)： 高分子 ,  フォトニクス ,  ブロック共重合体 ,  フォトニック結晶 ,  創成