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J-GLOBAL ID：201002236203487688   Reference number：10A0032853

基板周辺の中間周波グロー放電を利用した微粒子輸送型スパッタ装置の試作

Author (1)： KANEKO TADAO (群馬工高専)
Material： 日本機械学会関東支部ブロック合同講演会講演論文集
Volume： 2009  Page： 1-2  Publication year： Sep. 26, 2009 
JST Material Number： L4051A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *glow discharge ,  *sputtering system ,  metal ,  *fine particle ,  substrate (plate) ,  thin film growth ,  intermediate frequency ,  trial manufacture ,  electrode ,  structure ,  grid electrode ,  scanning electron microscope ,  kinetic energy ,  plasma ,  action and behavior ,  energy ,  mechanical quantity

JST classification (2)： Sputtering  (BK16110U) ,  Metallic thin films  (BK14030T)

Terms in the title (7)： 周辺 ,  中間周波 ,  グロー放電 ,  微粒子 ,  輸送 ,  スパッタ装置 ,  試作