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J-GLOBAL ID：201002244387386229   Reference number：10A1490148

Diluted nitric oxide (NO) annealing of SiO2/4H-SiC in cold-wall oxidation furnace

冷壁酸化炉中のSiO₂/H-SiCの希薄窒素酸化物(NO)アニーリング

Author (2)： KOSUGI R ,  FUKUDA K
Material： SILICON CARBIDE AND RELATED MATERIALS 2003, PTS 1 AND 2
Volume： 457-460  Page： 1345-1348  Publication year： 2004 
JST Material Number： O6090A  ISSN： 0255-5476  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： 酸化 ,  SiO2 ,  SiC ,  窒素酸化物 ,  NO ,  アニーリング