Art

J-GLOBAL ID：201002248429203311   Reference number：10A0169744

Effects of Sputtering Condition on Thin Films Deposited by r.f. Sputtering with a Polyimide Target

ポリイミドをターゲットとした高周波スパッタ膜の成膜条件が薄膜に与える影響

Author (3)： UEMURA AKIHIRO (金沢大学大学院 自然科学研究科) ,  TANABE TOMOYA (金沢大学大学院 自然科学研究科) ,  IWAMORI SATORU (金沢大学大学院 自然科学研究科)
Material： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
Volume： 130  Issue： 2  Page： 147-154 (J-STAGE)  Publication year： 2010 
JST Material Number： S0808A  ISSN： 0385-4205  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *polyimide ,  *thin film growth ,  *RF sputtering ,  flexible circuit board ,  adhesion property ,  shear strength ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  argon ,  wetting(liquid) ,  property
Semi thesaurus term： lubricating

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (22)：

• (1) H. Biederman : “RF sputtering of polymers and its potential application”, Vacuum, Vol. 59, pp. 594-599 (2000)
• (2) R. Harrop and P. J. Harrop : “Friction of sputtered PTFE films”, Thin Solid Films, Vol. 3, pp. 109-117 (1969)
• (3) H. Biederman, S. M. Ojha, and L. Holland : “The properties of fluorocarbon films prepared by r.f. sputtering and plasma polymerization in inert and active gas”, Thin Solid Films, Vol. 41, pp. 329-339 (1977)
• (4) Y. Yamada, K. Tanaka, and K. Saito : “Friction and damage of coatings formed by sputtering polytetrafluoroethylene and polyimide”, Surf. Coatings Tech., Vol. 43/44, pp. 618-628 (1990)
• (5) M. Kitoh and Y. Honda : “Preparation and tribological properties of sputtered polyimide film”, Thin Solid Films, Vol. 271, pp. 92-95 (1995)

Terms in the title (6)： ポリイミド ,  ターゲット ,  高周波 ,  スパッタ膜 ,  成膜条件 ,  薄膜