Art

J-GLOBAL ID：201002268033629422   Reference number：10A1481135

Influence of working gas pressure on structure and properties of WO3 films reactively deposited by rf magnetron sputtering

構造の働くガス圧の影響と無線周波数マグネトロンスパッタによって反動的に沈澱するWO3フィルムの特性

Author (4)： TAKAHASHI T ,  TANABE J ,  YAMADA N ,  NAKABAYASHI H
Material： JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A
Volume： 21  Issue： 4  Page： 1414-1418  Publication year： 2003 
JST Material Number： O4280A  ISSN： 0734-2101  Document type： Article
Country of issue： Other (ZZZ)  Language： ENGLISH (EN)

Terms in the title (6)： ガス圧 ,  無線周波数 ,  マグネトロンスパッタ ,  反動 ,  沈澱 ,  フィルム