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J-GLOBAL ID：201002282770995149   Reference number：10A0863739

Surface residual stress dependence on photoinduced highly hydrophilic conversion and back-reaction in the dark of rutile single crystals

ルチル単結晶の光誘起高親水性転換及び暗条件下での逆反応に及ぼす表面残留応力依存性

Author (4)： SHIBATA Tatsuo (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN) ,  IRIE Hiroshi (Univ. Yamanashi, Yamanashi, JPN) ,  TRYK Donald A. (Univ. Yamanashi, Yamanashi, JPN) ,  HASHIMOTO Kazuhito (Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
Material： Physical Chemistry Chemical Physics  (PCCP)
Volume： 12  Issue： 28  Page： 7911-7916  Publication year： Jul. 28, 2010 
JST Material Number： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *rutile ,  single crystal ,  *residual stress ,  surface diffusion ,  hydrophilicity ,  induction ,  photorearrangement ,  photo-induced
Semi thesaurus term： photochemical rearrangement

JST classification (3)： Oxide minerals,hydroxide minerals  (DE08050W) ,  Bases,metal oxides  (CD01030Z) ,  Photochemistry in general  (CB08010U)

Terms in the title (7)： ルチル ,  単結晶 ,  光誘起 ,  親水性 ,  転換 ,  残留 ,  応力依存性