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J-GLOBAL ID：201002285010188218   Reference number：10A0778813

Atomically precise bottom-up fabrication of graphene nanoribbons

原子レベルで精密なボトムアップ式グラフェンナノリボン作製

Author (14)： CAI Jinming ,  RUFFIEUX Pascal ,  JAAFAR Rached ,  BIERI Marco ,  BRAUN Thomas ,  BLANKENBURG Stephan ,  FASEL Roman ,  MUOTH Matthias (ETH Zurich, Zurich, CHE) ,  SEITSONEN Ari P. (Univ. Zurich, Zurich, CHE) ,  SEITSONEN Ari P. (Univ. Pierre et Marie Curie, Paris, FRA) ,  SALEH Moussa (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  FENG Xinliang (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  MUELLEN Klaus (Max Planck Inst. for Polymer Res., Mainz, DEU) ,  FASEL Roman (Univ. Bern, Bern, CHE)
Material： Nature (London)  (Nature (Lond))
Volume： 466  Issue： 7305  Page： 470-473  Publication year： Jul. 22, 2010 
JST Material Number： D0193B  ISSN： 0028-0836  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *Graphite ,  *nanostructure ,  *quantum confinement ,  *edge effect ,  *semiconductor ,  width ,  polyphenylene ,  artificial superlattice ,  quantum dot ,  *graphene ,  nanoribbon
Semi thesaurus term： edge effect

JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Terms in the title (4)： 原子 ,  ボトムアップ ,  グラフェンナノリボン ,  作製