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J-GLOBAL ID：201002293668122779   Reference number：10A0107725

Oxidation Resistance of CrAlN Films with Different Microstructures Prepared by Pulsed DC Balanced Magnetron Sputtering System

パルスDCバランスマグネトロンスパッタリング系によって合成した異なる微細構造を有するCrAlN膜の耐酸化性

Author (5)： KHAMSEH S. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama) ,  NOSE M. (Fac. of Art and Design, Univ. of Toyama) ,  KAWABATA T. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama) ,  MATSUDA K. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama) ,  IKENO S. (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Fac. of Engineering, Univ. of Toyama)
Material： Materials Transactions  (Mater Trans)
Volume： 51  Issue： 2  Page： 271-276 (J-STAGE)  Publication year： 2010 
JST Material Number： G0668A  ISSN： 1345-9678  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *nitride ,  *chromium compound ,  *aluminum compound ,  *ceramic membrane ,  *oxidation resistance ,  magnetron sputtering ,  *reactive sputtering ,  sputtered deposition ,  *evaporated film ,  pulse duration ,  *micro structure ,  internal stress ,  hardness ,  crystal structure ,  mixed construction ,  hexagonal system ,  annealing (heat treatment) ,  face-centered cubic structure
Semi thesaurus term： annealing (heat treatment)

JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Properties of ceramics and ceramic whiteware  (YC03030G)

Reference (31)：

• BARSHILIA, H. C. Surf. Coat. Technol. 2006, 201, 2193
• SUGISHIMA, A. Surf. Coat. Technol. 1997, 197, 590
• KIMURA, A. Surf. Coat. Technol. 2003, 169-170, 367
• PALDEY, S. Mat. Sci. Eng. A. 2003, 342, 58
• HORLING, A. J. Vac. Sci. Technol. A. 2002, 20, 1815

Terms in the title (6)： パルス ,  DC ,  バランス ,  マグネトロンスパッタリング ,  微細構造 ,  耐酸化性