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J-GLOBAL ID：201003000374679593

加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンの製造方法及び該オルガノハイドロジェンポリシロキサンと付加反応して得られるオルガノポリシロキサン

Inventor：
雨宮 正博

About 雨宮 正博

, 
上原 仁

About 上原 仁

, 
工藤 宗夫

About 工藤 宗夫

, 
浅井 光雄

About 浅井 光雄


Applicant, Patent owner：
信越化学工業株式会社

About 信越化学工業株式会社


Agent (4)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008191741
Publication number (International publication number)：2010031071
Application date： Jul. 25, 2008
Publication date： Feb. 12, 2010
Summary：
【課題】完全非水系で、酸性触媒の残留がなく、低コストに加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンを製造するための方法を提供する。【解決手段】(A)(a)加水分解性基を含有しないオルガノシロキサンと(b)加水分解性基を含有するオルガノシラン又はオルガノシロキサン((a)及び/又は(b)成分にヒドロシリル基を含有する)を超強酸性触媒の存在下、実質的に水の非存在下において反応を行い、加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンを得る工程、(B)得られたオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含む反応液に周期表2族及び/又は13族の元素を含む無機塩基性中和剤及び/又は吸着剤を添加して前記超強酸性触媒を中和及び/又は吸着する工程、及び(C)前記超強酸性触媒の中和物及び/又は吸着物を除去する工程を少なくとも含む加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンの製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)(a)1分子中に加水分解性基を含有しない少なくとも1種のオルガノシロキサンと、 (b)1分子中に少なくとも1個の加水分解性基を含有するオルガノシラン又はオルガノシロキサン(但し、(a)、(b)成分の少なくとも一方はヒドロシリル基を含有する。)を超強酸性触媒の存在下、実質的に水の非存在下において反応を行い、加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンを得る工程、 (B)得られた加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンを含む反応液に周期表2族及び/又は13族の元素を含む無機塩基性中和剤及び/又は吸着剤を添加して前記超強酸性触媒を中和及び/又は吸着する工程、及び (C)前記超強酸性触媒の中和物及び/又は吸着物を除去する工程 を少なくとも含むことを特徴とする加水分解性基含有オルガノハイドロジェンポリシロキサンの製造方法。
IPC (2)：
C08G 77/12 ,  C08G 77/14
FI (2)：
C08G77/12 ,  C08G77/14
F-Term (22)：
4J246AA03 ,  4J246AB01 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246BB143 ,  4J246CA01U ,  4J246CA01X ,  4J246CA010 ,  4J246CA14X ,  4J246CA140 ,  4J246CA23M ,  4J246CA230 ,  4J246CA24X ,  4J246CA33M ,  4J246CA56M ,  4J246CA68M ,  4J246CA69M ,  4J246FA222 ,  4J246FA291 ,  4J246FB091
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特許第2599237号公報
Cited by examiner (6)
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