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J-GLOBAL ID:201003001753701969
リポ酸濃度を高めた発生細胞用培養培地
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (6):
川口 嘉之
, 松倉 秀実
, 和久田 純一
, 遠山 勉
, 佐貫 伸一
, 丹羽 武司
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2010506387
Publication number (International publication number):2010525818
Application date: Apr. 10, 2008
Publication date: Jul. 29, 2010
Summary:
濃度を高めたリポ酸を含む培養培地を使用する、体外受精のための組成物及び方法が提供される。より詳細には、本発明は、5μM〜40μMの濃度のリポ酸を有する発生細胞用の培養培地を提供する。確認された範囲内の濃度でリポ酸を含む培養培地は、対照培地で培養した胚盤胞と比較して、生存率が増大し、細胞数が増大し、内部細胞塊が増大し、及び/又は塊全体に対する内部細胞の占める割合が増大した胚盤胞を提供することができる。
Claim (excerpt):
(a)水、
(b)無機塩、
(c)少なくとも1つのエネルギー源、及び
(d)約5μM〜約40μMの濃度のリポ酸、リポ酸誘導体又はその組合せ、
を含む発生細胞培養培地。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (12):
4B065AA90X
, 4B065AA91X
, 4B065AC20
, 4B065BB02
, 4B065BB11
, 4B065BB12
, 4B065BB18
, 4B065BD33
, 4B065BD34
, 4B065BD38
, 4B065BD39
, 4B065CA44
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