ファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：日向寺雅彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008320178
Publication number (International publication number)：2010147108
Application date： Dec. 16, 2008
Publication date： Jul. 01, 2010
Summary：

【課題】簡素な構造を保ちつつ、戻り光を低減可能なファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法を提供する。【解決手段】励起光を放出可能な励起光源と、希土類元素が添加されたコアを有し、前記希土類元素が前記励起光を吸収して入射レーザ光を増幅可能なアクティブファイバと、前記アクティブファイバの一方の端部と接続され、前記励起光を前記アクティブファイバへ入射可能なコンバイナと、前記アクティブファイバの他方の端部からの出射レーザ光を伝送し且つ被照射体に向けて照射可能な伝送用ファイバと、前記他方の端部と前記伝送用ファイバとの間に設けられ、前記被照射体からの散乱光及または反射光の少なくともいずれかの一部を分岐して外部に放出することにより前記他方の端部へ向かう戻り光を低減可能なディバイダと、を備えたことを特徴とするファイバレーザ装置、レーザ加工装置、及びレーザ加工方法が提供される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

励起光を放出可能な励起光源と、希土類元素が添加されたコアを有し、前記希土類元素が前記励起光を吸収して入射レーザ光を増幅可能なアクティブファイバと、前記アクティブファイバの一方の端部と接続され、前記励起光を前記アクティブファイバへ入射可能なコンバイナと、前記アクティブファイバの他方の端部からの出射レーザ光を伝送し且つ被照射体に向けて照射可能な伝送用ファイバと、前記他方の端部と前記伝送用ファイバとの間に設けられ、前記被照射体からの散乱光及または反射光の少なくともいずれかの一部を分岐して外部に放出することにより前記他方の端部へ向かう戻り光を低減可能なディバイダと、を備えたことを特徴とするファイバレーザ装置。

IPC (2)：

H01S 3/06 , B23K 26/08

FI (2)：

H01S3/06 B , B23K26/08 K

F-Term (12)：

4E068CE08 , 4E068CK01 , 5F172AE13 , 5F172AF05 , 5F172AF06 , 5F172AM08 , 5F172DD03 , 5F172EE14 , 5F172NN21 , 5F172NQ34 , 5F172NR12 , 5F172ZZ01

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

米国特許第5179610号明細書

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