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J-GLOBAL ID:201003003850965663

多孔質半導体膜形成用塗料および光電気セル

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 牧村 浩次 ,  高畑 ちより
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008330819
Publication number (International publication number):2010153232
Application date: Dec. 25, 2008
Publication date: Jul. 08, 2010
Summary:
【課題】強度に優れるとともに電解質の拡散性に優れた平均細孔径、細孔容積を有する多孔質半導体膜を形成可能な塗料を提供する。【解決手段】結晶性酸化チタン微粒子と増粘剤と分散媒とからなり、該結晶性酸化チタン微粒子が、無定形酸化チタン源に結晶化剤を添加したのち水熱処理し、結晶化剤を除去し、微粒子をアルカリ処理して得られたものであり、結晶性酸化チタン微粒子の平均粒子径が5〜300nmの範囲にあり、結晶性酸化チタン微粒子中の結晶化剤の含有量が1000ppm以下であり、結晶性酸化チタン微粒子固形分濃度が1〜30重量%の範囲にあることを特徴とする多孔質金属酸化物半導体膜形成用塗料。【選択図】なし
Claim (excerpt):
結晶性酸化チタン微粒子と増粘剤と分散媒とからなり、 該結晶性酸化チタン微粒子が、無定形酸化チタン源に結晶化剤を添加したのち水熱処理し、結晶化剤を除去し、微粒子をアルカリ処理して得られたものであり、 結晶性酸化チタン微粒子の平均粒子径が5〜300nmの範囲にあり、結晶性酸化チタン微粒子中の結晶化剤の含有量が1000ppm以下であり、 結晶性酸化チタン微粒子固形分濃度が1〜30重量%の範囲にあることを特徴とする多孔質金属酸化物半導体膜形成用塗料。
IPC (4):
H01M 14/00 ,  H01L 31/04 ,  C09D 201/00 ,  C09D 7/12
FI (4):
H01M14/00 P ,  H01L31/04 Z ,  C09D201/00 ,  C09D7/12
F-Term (36):
4J038BA021 ,  4J038BA091 ,  4J038CG001 ,  4J038DA161 ,  4J038HA216 ,  4J038JA17 ,  4J038JA25 ,  4J038JA32 ,  4J038KA08 ,  4J038KA12 ,  4J038KA17 ,  4J038KA22 ,  4J038MA07 ,  4J038MA08 ,  4J038MA10 ,  4J038NA17 ,  4J038PB09 ,  4J038PC01 ,  4J038PC03 ,  5F051AA14 ,  5F051CB13 ,  5F051FA03 ,  5F051GA03 ,  5F151AA14 ,  5F151CB13 ,  5F151FA03 ,  5F151GA03 ,  5H032AA06 ,  5H032AS06 ,  5H032AS16 ,  5H032BB02 ,  5H032CC16 ,  5H032EE02 ,  5H032EE04 ,  5H032HH01 ,  5H032HH04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開平1-220380号公報
  • 特表平5-504023号公報
Cited by examiner (3)

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