マイクロ波処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：岩橋文雄 , 内藤浩樹 , 永野大介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008263810
Publication number (International publication number)：2010092795
Application date： Oct. 10, 2008
Publication date： Apr. 22, 2010
Summary：

【課題】加熱室の底壁面に略対称に配置した給電部間の位相差制御によりマイクロ波分布を操作することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の底壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物9に対して反射電力を最小に抑制し高効率な加熱を実現させることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被加熱物を収容する加熱室と、発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の少なくともひとつの出力位相を可変する位相可変部と、前記電力分配部および/または前記位相可変部の出力をそれぞれ電力増幅する増幅部と、前記増幅部の出力を前記加熱室に供給する給電部と、それぞれの前記給電部から前記増幅部方向に反射するマイクロ波電力を検出する電力検出部と、前記発振部の発振周波数と前記位相可変部の位相量を制御する制御部とを備え、前記制御部は前記加熱室に収容された前記被加熱物を加熱処理する前段階で、前記給電部から前記増幅部方向に反射するマイクロ波電力が最小となる周波数を検出する予備検出動作を行う構成とし、前記給電部は、偶数ヶ所でかつ4ヶ所以上を前記加熱室の底壁面に全て設け、前記加熱室の被加熱物設置水平面の略中心を通る垂直軸上の点に対し、前記給電部を2ヶ所毎に略対称に配置し、略対称に配置した前記給電部組合せ毎に、供給するマイクロ波電界の励振方向を一致させた構成とし、前記制御部は、位相制御する前記給電部の組合せ間で、前記給電部それぞれから放射されるマイクロ波電力を略一致させる構成としたマイクロ波処理装置。

IPC (3)：

H05B 6/64 , B01J 19/12 , H05B 6/66

FI (3)：

H05B6/64 G , B01J19/12 A , H05B6/66 C

F-Term (17)：

3K086AA01 , 3K086BA07 , 3K086CA11 , 3K086CD01 , 3K086DA02 , 3K090AA01 , 3K090AA02 , 3K090AB02 , 3K090BA03 , 3K090DA17 , 3K090DA18 , 4G075AA01 , 4G075CA02 , 4G075CA26 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EB31

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開昭52-19342号公報
実開昭52-16654号公報
特開昭56-132793号公報

Cited by examiner (5)

マイクロ波処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-331530 Applicant：松下電器産業株式会社
高周波加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-335337 Applicant：松下電器産業株式会社
マイクロ波加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-169268 Applicant：松下電器産業株式会社

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