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J-GLOBAL ID：201003008332944280

ガス化設備における流動層ガス化炉の層高制御方法及び装置

Inventor：
須田 俊之

About 須田 俊之


Applicant, Patent owner：
株式会社IHI

About 株式会社IHI


Agent (1)： 特許業務法人山田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008183329
Publication number (International publication number)：2010025353
Application date： Jul. 15, 2008
Publication date： Feb. 04, 2010
Summary：
【課題】ガス化炉と燃焼炉との間で流動媒体が循環されるガス化設備において、ガス化炉内における流動媒体の層高を制御し得、該ガス化炉内に留まる流動媒体の滞留時間を、ガス化炉内での流動媒体の温度とは個別に調節することができ、ガス化炉に投入される原料のガス化率、即ち炭素転換率を要求に応じて変化させ得ると共に、ガス化特性の異なる原料に対してもそのガス化率を目標値とすることができ、安定した運転を行い得るガス化設備における流動層ガス化炉の層高制御方法及び装置を提供する。【解決手段】ガス化炉2に媒体分離装置8で分離された流動媒体を供給すると共に、原料を投入し、ガス化炉2にその上下方向へ所要間隔をあけて接続された流動媒体抜出ポート40a,40b,40cのいずれかから流動媒体を抜き出して燃焼炉5へ導くことにより、ガス化炉2の流動媒体の層高を制御しつつ滞留時間を制御する。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
蒸気により流動媒体の流動層を形成して投入される原料のガス化を行いガス化ガスと可燃性固形分とを生成するガス化炉と、該ガス化炉で生成された可燃性固形分が流動媒体と共に導入され且つ流動用ガスにより流動層を形成して前記可燃性固形分の燃焼を行う燃焼炉と、該燃焼炉から導入される燃焼排ガスより流動媒体を分離し該分離した流動媒体を前記ガス化炉に供給する媒体分離装置とを備えたガス化設備における流動層ガス化炉の層高制御方法であって、 前記ガス化炉に対し媒体分離装置で分離された流動媒体を供給すると共に、原料を投入し、前記ガス化炉に対しその上下方向へ所要間隔をあけて接続された複数の流動媒体抜出ポートのいずれかから流動媒体を抜き出して前記燃焼炉へ導くことにより、前記ガス化炉の流動媒体の層高を制御しつつ滞留時間を制御することを特徴とするガス化設備における流動層ガス化炉の層高制御方法。
IPC (3)：
F23C 10/30 ,  F23C 10/10 ,  F23G 5/027
FI (3)：
F23C10/30 ,  F23C10/10 ,  F23G5/027 B
F-Term (26)：
3K064AA08 ,  3K064AA18 ,  3K064AD05 ,  3K064AD08 ,  3K064AE13 ,  3K064AF01 ,  3K064BA07 ,  3K064BA11 ,  3K064BA19 ,  3K064BA21 ,  3K161AA09 ,  3K161AA23 ,  3K161CA03 ,  3K161DA53 ,  3K161EA41 ,  3K161EA45 ,  3K161GA02 ,  3K161GA15 ,  3K161GA23 ,  3K161HA55 ,  3K161HA61 ,  3K161HA64 ,  3K161HB03 ,  3K161HB05 ,  3K161HB08 ,  3K161HB11
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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