Pat
J-GLOBAL ID：201003014257733898

水質改善材及びそれを用いた水処理装置

Inventor：
迫田 作男

About 迫田 作男


Applicant, Patent owner：
株式会社ピュアパートナー

About 株式会社ピュアパートナー

, 
メディアトゥウェンティワン株式会社

About メディアトゥウェンティワン株式会社


Agent (1)： 榎本 一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008199018
Publication number (International publication number)：2010036068
Application date： Jul. 31, 2008
Publication date： Feb. 18, 2010
Summary：
【課題】レジオネラ属菌の繁殖が懸念される空調用冷却水、循環式や貯湯式の給湯水、公園や広場,中庭等に設けられる噴水や滝等の修景用水、雨水や下水処理水等を高度処理した再生水等の雑用水、温泉浴槽水、プール水、家庭用や特養施設,公衆浴場等の保温循環式の浴槽水等の被処理水に電磁波の高いエネルギーを吸収させて活性化させ、その結果、用水配管や貯水槽等の錆,スケール,スライム等の除去や付着防止ができる水質改善材を提供する。【解決手段】本発明は、25〜100μmの波長領域で放射率が70%以上の電磁波放射体を備える。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
25〜100μmの波長領域で放射率が70%以上の電磁波放射体を備えていることを特徴とする水質改善材。
IPC (4)：
C02F 1/30 ,  C02F 1/68 ,  C02F 5/00 ,  C02F 1/50
FI (24)：
C02F1/30 ,  C02F1/68 520S ,  C02F1/68 510G ,  C02F1/68 510H ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 540G ,  C02F5/00 610Z ,  C02F1/50 510C ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 510E ,  C02F1/50 520K ,  C02F1/50 520L ,  C02F1/50 531E ,  C02F1/50 531F ,  C02F1/50 550B ,  C02F1/50 560C ,  C02F1/50 560Z ,  C02F1/50 540F ,  C02F1/50 520A ,  C02F1/68 510A ,  C02F1/68 510B ,  C02F1/68 540B ,  C02F1/68 520N ,  C02F1/68 520B
F-Term (6)：
4D037AA01 ,  4D037AA08 ,  4D037AA09 ,  4D037AB03 ,  4D037BA16 ,  4D037CA16
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 水の汚濁防止方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-232291   Applicant：三菱樹脂株式会社
Cited by examiner (5)
  • 特開昭63-049299
  • 循環水の水質処理方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-133217   Applicant：光兆産業株式会社, トヨシマ技研株式会社, 高井一雄
  • 抗菌脱臭素材
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-154730   Applicant：株式会社日本技術開発センター
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM