非晶質シリカ

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：小野尚純 , 奥貫佐知子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009282117
Publication number (International publication number)：2010184856
Application date： Dec. 11, 2009
Publication date： Aug. 26, 2010
Summary：

【課題】化粧料に配合されたとき、持続して優れたソフトフォーカス性を付与することができる新規な非晶質シリカ及びその製造法を提供する。【解決手段】X線小角散乱法で測定した一次粒子径が18乃至50nmであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が0.70乃至0.85であることを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

X線小角散乱法で測定した一次粒子径が18乃至50nmであり、電子顕微鏡で観察した個々の二次粒子の円形度が0.70乃至0.85であることを特徴とする非晶質シリカ。

IPC (5)：

C01B 33/193 , A61K 8/25 , A61Q 1/02 , C08K 3/36 , C08L 101/00

FI (5)：

C01B33/193 , A61K8/25 , A61Q1/02 , C08K3/36 , C08L101/00

F-Term (72)：

4C083AA122 , 4C083AB152 , 4C083AB171 , 4C083AB172 , 4C083AB232 , 4C083AB242 , 4C083AB432 , 4C083AC012 , 4C083AC022 , 4C083AC352 , 4C083AC372 , 4C083AC422 , 4C083AC442 , 4C083AC482 , 4C083AD092 , 4C083AD152 , 4C083AD512 , 4C083AD662 , 4C083CC01 , 4C083CC11 , 4C083CC12 , 4C083CC13 , 4C083DD11 , 4C083DD17 , 4C083DD22 , 4C083DD23 , 4C083DD30 , 4C083EE07 , 4C083FF01 , 4G072AA25 , 4G072AA28 , 4G072BB05 , 4G072BB13 , 4G072CC04 , 4G072DD06 , 4G072EE01 , 4G072GG01 , 4G072GG02 , 4G072GG03 , 4G072HH21 , 4G072JJ15 , 4G072KK07 , 4G072KK15 , 4G072KK17 , 4G072LL06 , 4G072MM22 , 4G072MM23 , 4G072MM24 , 4G072MM31 , 4G072MM36 , 4G072PP02 , 4G072PP05 , 4G072PP07 , 4G072PP09 , 4G072RR06 , 4G072RR12 , 4G072SS01 , 4G072SS05 , 4G072SS06 , 4G072SS12 , 4G072SS14 , 4G072TT01 , 4G072TT11 , 4G072TT30 , 4G072UU09 , 4G072UU30 , 4J002BB141 , 4J002DJ016 , 4J002FD206 , 4J002GB00 , 4J002GH01 , 4J002GT00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

粒状非晶質シリカの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-261153 Applicant：水澤化学工業株式会社
大粒子径シリカの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-267346 Applicant：日鉄鉱業株式会社
非晶質シリカ及びそれを用いたインクジェット記録媒体の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-186182 Applicant：日本製紙株式会社

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