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J-GLOBAL ID：201003017959161476

光断層画像表示システム

Inventor： 広林 茂樹 ,  両澤 淳 ,  鄭 昌鎬
Applicant, Patent owner： 国立大学法人富山大学 ,  サンテック株式会社
Agent (1)： 岡本 宜喜
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009069632
Publication number (International publication number)：2010223670
Application date： Mar. 23, 2009
Publication date： Oct. 07, 2010
Summary：

【課題】光断層画像表示システムにおいて、高精度で断層画像を表示システムの提供。【解決手段】周波数領域の光断層画像表示システムにおいて、干渉光の周波数分析を行い、光断層画像を得る。このとき干渉信号を解析対象信号として解析対象信号と、周波数f’及び初期位相φ’を用いた位相と振幅A’とによって表される正弦波モデル信号との差の二乗和が最小値になるように周波数f’、振幅A’、初期位相φ’を求め、その解析結果により、断層画像を表示する。これにより高精度の光断層画像を得ることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

周期的に光の発振波長を走査する波長走査型光源と、 前記波長走査型光源からの光を参照光と物体への照射光とに分岐し、物体からの反射光と参照光との干渉光を発生する干渉光学計と、 前記干渉光学計より得られる干渉光を受光し、ビート信号を得る受光素子と、 前記受光素子から得られる干渉信号に対して周波数解析を行い、物体の断層画像を形成する信号解析部と、を具備し、 前記信号解析部は、 前記受光素子から得られる干渉信号を解析対象信号として保持する記憶部と、 前記記憶部に記憶された前記解析対象信号を読み出し、前記解析対象信号と、周波数f’及び初期位相φ’を用いた位相と振幅A’とによって表される正弦波モデル信号との差の二乗和が最小値になるような前記周波数f’、前記振幅A’、及び前記初期位相φ’を算出し、求めた前記周波数f’、前記振幅A’、及び前記初期位相φ’に基づき断面画像を出力する演算手段と、 前記演算手段より得られる断面画像を表示する表示部と、を具備する光断層画像表示システム。

IPC (2)：

G01N 21/17 ,  G01N 21/39

FI (2)：

G01N21/17 620 ,  G01N21/39

F-Term (10)：

2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059GG09 ,  2G059KK01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 断層画像処理方法、装置およびプログラムならびにこれを用いた光断層画像化システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-311284   Applicant：富士フイルム株式会社
• モデル予測制御方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-255659   Applicant：富士通テン株式会社
• 粘弾性測定装置および粘弾性測定方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-372299   Applicant：埼玉県, 有限会社サンズコーポレーション
• 光断層画像表示システム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-207140   Applicant：サンテック株式会社
• 光断層画像表示システム及び光断層画像表示方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-105749   Applicant：サンテック株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• “高分解能の周波数解析法を用いたスペクトルサブトラクションの改善 Improvement of the Spectral Subtra