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J-GLOBAL ID：201003018756654392

ポリマーレリーフ構造の調製方法

Inventor： ヘルマン, コー ,  バスティアンセン, コーネリス, ウィルヘルムス, マリア ,  ブルール, ディルク ,  ペレラー, ジョルケ
Applicant, Patent owner： スティッチング ダッチ ポリマー インスティテュート
Agent (3)： 山田 行一 ,  野田 雅一 ,  池田 成人
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009525964
Publication number (International publication number)：2010501687
Application date： Aug. 28, 2007
Publication date： Jan. 21, 2010
Summary：

本発明は、1種又は複数の放射線感受性成分を含む被覆組成物で基板を被覆するステップと、潜像を形成する、周期的又は不規則な放射線強度パターンを有する電磁放射線で、被覆基板を局所的に処理するステップと、得られた被覆基板を重合及び/又は架橋するステップとを含み、被覆組成物は、ステップcにおいて、被覆基板の非処理領域における実質的な重合を阻害/抑制するために十分な量、かつ処理領域における重合及び/又は架橋を可能とするために十分低い量の、1種又は複数のラジカルスカベンジャーを含むが、但し、被覆組成物中に存在する酸素の量は、被覆組成物が空気と接触しているときに存在する酸素の平衡量と等しくない、ポリマーレリーフ構造の調製方法に関する。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

a)1種又は複数の放射線感受性成分を含む被覆組成物で基板を被覆するステップと、 b)潜像を形成する、周期的又は不規則な放射線強度パターンを有する電磁放射線で、被覆基板を局所的に処理するステップと、 c)得られた被覆基板を重合及び/又は架橋するステップと を含み、前記被覆組成物は、ステップcにおいて、前記被覆基板の非処理領域における実質的な重合を阻害/抑制するために十分な量、かつ処理領域における重合及び/又は架橋を可能とするために十分低い量の、1種又は複数の有機ラジカルスカベンジャーを含むが、但し、前記被覆組成物中に存在する酸素の量は、前記被覆組成物が空気と接触しているときに存在する酸素の平衡量と等しくない、ポリマーレリーフ構造の調製方法。

IPC (2)：

C08F 2/46 ,  C08F 2/40

FI (2)：

C08F2/46 ,  C08F2/40

F-Term (14)：

4J011NA14 ,  4J011NA15 ,  4J011NA17 ,  4J011NA18 ,  4J011NA23 ,  4J011NA34 ,  4J011NA35 ,  4J011NB03 ,  4J011QA21 ,  4J011RA03 ,  4J011TA01 ,  4J011UA01 ,  4J011VA01 ,  4J011WA10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 平版印刷版原版およびそれを用いた平版印刷方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-322194   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• ネガ型感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性樹脂版
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-071513   Applicant：東京応化工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Multi-domain Liquid Crystal Display with Self-Aligned 4-Domains on Surface Relief Gratings of Photop