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J-GLOBAL ID：201003019010428857

光断層画像化装置及び光断層画像化装置における干渉信号の処理方法

Inventor： 中林 耕基 ,  小澤 聡
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社 ,  フジノン株式会社
Agent (1)： 松浦 憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008174197
Publication number (International publication number)：2010014514
Application date： Jul. 03, 2008
Publication date： Jan. 21, 2010
Summary：

【課題】SS-OCTにおいてOCT測定によって得られた複数の干渉信号データを用いて処理する際に、位相ずれによってその効果が低下することなく効率的に断層画像の画質を改善する。【解決手段】SS-OCT計測法を用いた光断層画像化装置における干渉信号の処理方法であって、測定対象の同一測定部位を複数回計測して得られた複数の干渉信号の位相ずれを補正する位相補正処理を行うことを特徴とする。また、位相補正処理を行った後、フーリエ変換前に平均化処理を行うことを特徴とする。また、位相補正処理を行った後、ドップラー方式を適用することを特徴とする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

SS-OCT計測法を用いた光断層画像化装置における干渉信号の処理方法であって、測定対象の同一測定部位を複数回計測して得られた複数の干渉信号の位相ずれを補正する位相補正処理を行うことを特徴とする光断層画像化装置における干渉信号の処理方法。

IPC (3)：

G01N 21/17 ,  A61B 10/00 ,  A61B 1/00

FI (3)：

G01N21/17 620 ,  A61B10/00 E ,  A61B1/00 300D

F-Term (18)：

2G059AA05 ,  2G059BB12 ,  2G059EE02 ,  2G059EE09 ,  2G059EE17 ,  2G059FF02 ,  2G059GG01 ,  2G059JJ05 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ17 ,  2G059JJ22 ,  2G059LL04 ,  2G059MM01 ,  2G059MM03 ,  2G059MM09 ,  2G059NN01 ,  4C061CC04 ,  4C061LL10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 米国特許出願公開第2006/0109423号明細書
  
• 米国特許出願公開第2006/0279742号明細書