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J-GLOBAL ID：201003021575426720

応力発光解析装置、応力発光解析方法、応力発光解析プログラムおよび記録媒体

Inventor： 福田 修 ,  上野 直広 ,  今井 祐介 ,  徐 超男
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Agent (1)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009038306
Publication number (International publication number)：2010190865
Application date： Feb. 20, 2009
Publication date： Sep. 02, 2010
Summary：

【課題】応力発光体の発光現象に基づいて、当該応力発光のひずみパターンを精度よく推定することができる応力発光解析装置を提供する。【解決手段】本発明に係る応力発光解析装置100は、応力発光体の発光パターンを特定するパラメータ、および、応力発光体を賦活状態に遷移させる賦活光の照射パターンを特定するパラメータおよび賦活光の照射終了時刻から応力発光の検知時刻までの経過時間を入力情報とし、応力発光体のひずみパターンを出力情報する、学習により予め最適化されたニューラルネットワークを用いた算出部140を備えている。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

応力発光体のひずみパターンを解析する応力発光解析装置であって、 応力発光体の発光パターン、および、当該応力発光体を賦活状態に遷移させる賦活光の照射パターンに基づいて、上記応力発光体のひずみパターンを算出する算出手段を備えていることを特徴とする応力発光解析装置。

IPC (2)：

G01N 21/70 ,  G01N 21/88

FI (2)：

G01N21/70 ,  G01N21/88 Z

F-Term (19)：

2G043AA03 ,  2G043CA05 ,  2G043EA06 ,  2G043FA01 ,  2G043FA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB07 ,  2G043GB08 ,  2G043LA01 ,  2G043LA03 ,  2G043NA05 ,  2G051AA88 ,  2G051AA90 ,  2G051AB02 ,  2G051BA20 ,  2G051CA01 ,  2G051CA04 ,  2G051CB10 ,  2G051EA12