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J-GLOBAL ID：201003029240622232

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法

Inventor： 松宮 祐 ,  塩野 大寿 ,  平野 智之 ,  太宰 尚宏 ,  遠藤 浩太朗
Applicant, Patent owner： 東京応化工業株式会社
Agent (4)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009130554
Publication number (International publication number)：2010156941
Application date： May. 29, 2009
Publication date： Jul. 15, 2010
Summary：

【課題】優れたリソグラフィー特性および耐熱性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分(A)が、側鎖にオキソカルボニル基を有する(メタ)アクリレート単位(a0)と、酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリレート単位(a1)と、側鎖に1-アダマンチル基を有する(メタ)アクリレート単位(a3)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、該高分子化合物(A1)を構成する全構成単位の合計に対する前記構成単位(a3)の割合が、1〜30モル%の範囲内であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記基材成分(A)が、下記一般式(a0-1)で表される構成単位(a0)と、酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、下記一般式(a3-1)で表される、水酸基含有脂肪族炭化水素基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a3)とを有する高分子化合物(A1)を含有し、 該高分子化合物(A1)を構成する全構成単位の合計に対する前記構成単位(a3)の割合が、1〜30モル%の範囲内であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  C08F 220/38 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  C08F220/38 ,  H01L21/30 502R

F-Term (43)：

2H125AF18P ,  2H125AF33P ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN54P ,  2H125AN63P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA02S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11S ,  4J100BA15P ,  4J100BA15S ,  4J100BA58P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC08P ,  4J100BC08S ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53S ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38