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J-GLOBAL ID：201003031902941788

スルホン酸基含有共重合体およびその製造方法

Inventor：
米田 淳郎

About 米田 淳郎

, 
逸見 暁子

About 逸見 暁子

, 
中西 幸子

About 中西 幸子


Applicant, Patent owner：
株式会社日本触媒

About 株式会社日本触媒


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008286332
Publication number (International publication number)：2010111792
Application date： Nov. 07, 2008
Publication date： May. 20, 2010
Summary：
【課題】洗剤用途に用いられた場合に従来より一層改善された再汚染防止能を有する重合体組成物およびその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】5〜45質量%の特定のスルホン酸基含有単量体由来の構造、5〜45質量%の特定のポリオキシアルキレン系単量体由来の構造、10〜90質量%カルボキシル基含有単量体由来の構造を有するスルホン酸基含有共重合体である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
下記一般式(s-1)で表されるスルホン酸基含有単量体由来の構造(S1)、 下記一般式(p-1)および/または下記一般式(p-3)で表されるポリオキシアルキレン系単量体由来の構造(それぞれP1、P3)、 カルボキシル基含有単量体由来の構造(C1)、 を有するスルホン酸基含有共重合体であって、 共重合体の全単量体由来の構造の質量100質量%に対するスルホン酸基含有単量体由来の構造(S1)の組成が、5〜45質量%(酸型換算)であり、 共重合体の全単量体由来の構造の質量100質量%に対するポリオキシアルキレン系単量体由来の構造(P1とP3の合計)の組成が5〜45質量%であり、 共重合体の全単量体由来の構造の質量100質量%に対するカルボキシル基含有単量体由来の構造(C1)の組成が10〜90質量%(酸型換算)である、 スルホン酸基含有共重合体。
IPC (3)：
C08F 220/04 ,  C08F 216/14 ,  C11D 3/37
FI (3)：
C08F220/04 ,  C08F216/14 ,  C11D3/37
F-Term (13)：
4H003EB28 ,  4H003FA06 ,  4H003FA32 ,  4J100AE09Q ,  4J100AE09R ,  4J100AJ01P ,  4J100BA03R ,  4J100BA08R ,  4J100BA56Q ,  4J100CA05 ,  4J100FA08 ,  4J100FA19 ,  4J100JA57
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (6)
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