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J-GLOBAL ID：201003041403335848

ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法

Inventor：
竹下 優

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熊田 信次

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吉井 靖博

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岩井 武

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中村 剛

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Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

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Agent (4)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  五十嵐 光永
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009178437
Publication number (International publication number)：2010217855
Application date： Jul. 30, 2009
Publication date： Sep. 30, 2010
Summary：
【課題】レジスト材料の溶解性に優れたポジ型レジスト組成物、及び当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤を含有する有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物;第一のレジストパターンが形成された支持体上に、前記ポジ型レジスト組成物を塗布して第二のレジスト膜を形成する工程と、前記第二のレジスト膜を選択的に露光し、アルカリ現像してレジストパターンを形成する工程とを含むレジストパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを有機溶剤(S)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、 前記有機溶剤(S)は、沸点150°C以上のアルコール系有機溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/40 ,  C08F 220/18
FI (4)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/40 511 ,  C08F220/18
F-Term (46)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096GA08 ,  2H096KA03 ,  2H096KA06 ,  2H096KA13 ,  2H125AF18P ,  2H125AF22P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AH16 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN02P ,  2H125AN11P ,  2H125AN21P ,  2H125AN63P ,  2H125AN64P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA18 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA20P ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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