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J-GLOBAL ID:201003042682148889

多孔性層、その製造方法およびその用途

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 川口 義雄 ,  小野 誠 ,  渡邉 千尋 ,  金山 賢教 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2009536775
Publication number (International publication number):2010509175
Application date: Nov. 13, 2007
Publication date: Mar. 25, 2010
Summary:
本発明は、多孔性層2により被覆された基板1、この層の製造方法およびその用途に関する。多孔性層2は、主に無機物であり、平均で、20nm以上で100nm以下である少なくとも最小特性寸法を有する一連の閉鎖細孔を有するゾル-ゲルタイプのものである。
Claim (excerpt):
一連の閉鎖細孔(20)を有する、ゾル-ゲルタイプの本質的に無機物の少なくとも1種の多孔性コーティング(2、2’)(これの少なくとも最小特性寸法は、平均で、少なくとも20nmであり、100nmを超えない。)により少なくとも部分的に被覆された基板(10、10’、10”、100)。
IPC (4):
C03C 17/25 ,  C03C 17/30 ,  C03C 17/42 ,  C03C 17/34
FI (4):
C03C17/25 Z ,  C03C17/30 Z ,  C03C17/42 ,  C03C17/34 A
F-Term (12):
4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC04 ,  4G059AC22 ,  4G059EA05 ,  4G059EB07 ,  4G059FA22 ,  4G059FB03 ,  4G059GA01 ,  4G059GA02 ,  4G059GA11 ,  4G059GA16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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