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J-GLOBAL ID:201003052226744491
高活性触媒およびその製造方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鐘尾 宏紀
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008179978
Publication number (International publication number):2010017649
Application date: Jul. 10, 2008
Publication date: Jan. 28, 2010
Summary:
【課題】無機酸化物担体上に貴金属を担持する高活性な触媒およびその製造方法、エタノールからの酢酸合成に使用され、温和な反応条件で、転化率、選択率の高い酸化触媒、並びに一酸化炭素などの酸化に使用される、活性の高い触媒を提供する。【解決手段】担体の金属酸化物を形成するための水溶性金属塩、前記金属酸化物の価電子制御あるいは固溶体形成を行うための金属イオンとして用いられる水溶性金属塩および水溶性貴金属化合物を水に溶解して水溶液を製造し、該水溶液を過剰量のアルカリ水溶液中に投入し、析出した沈澱物をろ過し、焼成することにより触媒を製造する。価電子制御あるいは固溶体形成を行う金属イオンは、担体無機酸化物がn型半導体である場合、金属酸化物を構成する金属イオンよりも大きな価数もしくは同等の価数を有し、前記金属酸化物がp型半導体である場合、金属酸化物を構成する金属イオンよりも小さな価数もしくは同等の価数を有するものが選択される。例えば、銅イオンをドープしたニッケル酸化物担持金触媒は、エタノールからの酢酸合成用触媒として、また鉄イオンをドープした亜鉛酸化物担持金触媒は、一酸化炭素の酸化触媒として、極めて優れた触媒特性を示す。【選択図】なし
Claim (excerpt):
無機酸化物担体上に貴金属微粒子を担持した触媒において、無機酸化物担体が、該担体を主として構成する金属酸化物に、該金属酸化物を構成する金属イオンの価電子制御を行う、もしくは該金属酸化物に固溶することのできる金属イオンをドープした金属酸化物からなることを特徴とする触媒。
IPC (4):
B01J 23/89
, B01J 37/03
, B01J 37/18
, B01J 37/08
FI (4):
B01J23/89 Z
, B01J37/03 Z
, B01J37/18
, B01J37/08
F-Term (30):
4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA04A
, 4G169BA36A
, 4G169BB04A
, 4G169BB04B
, 4G169BB06A
, 4G169BC22A
, 4G169BC31A
, 4G169BC31B
, 4G169BC32A
, 4G169BC33A
, 4G169BC33B
, 4G169BC35B
, 4G169BC66B
, 4G169BC67A
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169BC70A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC74A
, 4G169BC75A
, 4G169CB07
, 4G169CB74
, 4G169FA01
, 4G169FB08
, 4G169FB30
, 4G169FB44
, 4G169FC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (3)
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特公平5-049338
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特開昭60-238148
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金属複合体及び排ガス浄化用触媒と排ガス浄化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-015909
Applicant:株式会社豊田中央研究所
Article cited by the Patent:
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