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J-GLOBAL ID：201003053706291590

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor： 上村 聡 ,  樽谷 晋司
Applicant, Patent owner： 富士フイルム株式会社
Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009041379
Publication number (International publication number)：2010197619
Application date： Feb. 24, 2009
Publication date： Sep. 09, 2010
Summary：

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)下記一般式(1)で表される酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。

IPC (6)：

G03F 7/038 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/32 ,  G03F 7/039 ,  C08F 20/28 ,  H01L 21/027

FI (6)：

G03F7/038 601 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/039 601 ,  C08F20/28 ,  H01L21/30 502R

F-Term (61)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025AD07 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA15 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096BA11 ,  2H096DA01 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA15S ,  4J100BA40Q ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC04S ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100BC58P ,  4J100BC58Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38 ,  4J100JA39