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J-GLOBAL ID:201003055416949048

排ガス浄化用触媒及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 長濱 範明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009038843
Publication number (International publication number):2010194384
Application date: Feb. 23, 2009
Publication date: Sep. 09, 2010
Summary:
【課題】 窒素酸化物を十分に還元する能力を持つ排ガス浄化用触媒を提供すること。【解決手段】 金属酸化物からなる担体と、前記担体に担持された金属粒子とを備える排ガス浄化用触媒であって、 前記金属粒子が、Pt,Ag,Mn,Fe及びAuからなる群から選択される少なくとも一種の第一の金属と、Pd,Rh,Ir及びRuからなる群から選択される少なくとも一種の第二の金属との固溶体からなり、 前記金属粒子の平均一次粒子径が1.5nm以下であり、且つ、 前記金属粒子における一次粒子毎の金属組成比の標準偏差が10%以下であることを特徴とする排ガス浄化用触媒。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
金属酸化物からなる担体と、前記担体に担持された金属粒子とを備える排ガス浄化用触媒であって、 前記金属粒子が、Pt,Ag,Mn,Fe及びAuからなる群から選択される少なくとも一種の第一の金属と、Pd,Rh,Ir及びRuからなる群から選択される少なくとも一種の第二の金属との固溶体からなり、 前記金属粒子の平均一次粒子径が1.5nm以下であり、且つ、 前記金属粒子における一次粒子毎の金属組成比の標準偏差が10%以下であることを特徴とする排ガス浄化用触媒。
IPC (5):
B01J 23/58 ,  B01D 53/94 ,  B01J 37/02 ,  B01J 37/16 ,  F01N 3/10
FI (6):
B01J23/58 A ,  B01D53/36 102B ,  B01J37/02 101C ,  B01J37/16 ,  B01D53/36 102H ,  F01N3/10 A
F-Term (62):
3G091AA02 ,  3G091AB05 ,  3G091BA01 ,  3G091BA14 ,  3G091BA39 ,  3G091GB01W ,  3G091GB02W ,  3G091GB03W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB10X ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AB07 ,  4D048BA03X ,  4D048BA14X ,  4D048BA15X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA41X ,  4D048BB17 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA01B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC02A ,  4G169BC03A ,  4G169BC03B ,  4G169BC04A ,  4G169BC04B ,  4G169BC05A ,  4G169BC06A ,  4G169BC09A ,  4G169BC10A ,  4G169BC11A ,  4G169BC12A ,  4G169BC13A ,  4G169BC13B ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC62A ,  4G169BC66A ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CA03 ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169EB18X ,  4G169EB18Y ,  4G169EC03Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB13 ,  4G169FB29 ,  4G169FB43 ,  4G169FB78 ,  4G169FB80
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 排NOx浄化方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2007-164919   Applicant:旭化成株式会社, 財団法人野口研究所
  • 特許第6534661号
  • 特許第6534661号
Article cited by the Patent:
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