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J-GLOBAL ID：201003055497948776

整髪化粧料

Inventor：
清水 秀樹

About 清水 秀樹


Applicant, Patent owner：
株式会社資生堂

About 株式会社資生堂


Agent (1)： ▲高▼野 俊彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008283244
Publication number (International publication number)：2010111594
Application date： Nov. 04, 2008
Publication date： May. 20, 2010
Summary：
【課題】高いセット力を有しながらもアレンジ力をも十分に兼ね備えた整髪化粧料を提供すること。従来の整髪化粧料の欠点を追求し、近年の消費者の要望を適えたヘアスタイル用商品として極めて有用な毛髪化粧料を提供すること。【解決手段】本発明は、皮膜性高分子と、糖及び/又は糖アルコールとを含有する整髪化粧料において、(A)皮膜性高分子を1〜15質量%、(B)糖及び/又は糖アルコールを0.5〜30質量%、(C)エステル結合を含むロウを0.2〜15質量%、(D)液状油分とを含有し、さらに(E)(A)成分と(B)成分の含有量の質量比が(B)/(A)=1/2〜3、(F)(A)成分と(C)成分の含有量の質量比が(C)/(A)=1/5〜1、(G)(C)成分と(D)成分の含有量の質量比が(D)/(C)=1/2〜3/2であることを特徴とする整髪化粧料である。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
皮膜性高分子と、糖及び/又は糖アルコールとを含有する整髪化粧料において、 (A)皮膜性高分子を1〜15質量% (B)糖及び/又は糖アルコールを0.5〜30質量% (C)エステル結合を含むロウを0.2〜15質量% (D)液状油分 とを含有し、さらに (E)(A)成分と(B)成分の含有量の質量比が(B)/(A)=1/2〜3 (F)(A)成分と(C)成分の含有量の質量比が(C)/(A)=1/5〜1 (G)(C)成分と(D)成分の含有量の質量比が(D)/(C)=1/2〜3/2 であることを特徴とする整髪化粧料。
IPC (8)：
A61K 8/60 ,  A61K 8/34 ,  A61K 8/92 ,  A61Q 5/06 ,  A61K 8/81 ,  A61K 8/87 ,  A61K 8/73 ,  A61K 8/37
FI (8)：
A61K8/60 ,  A61K8/34 ,  A61K8/92 ,  A61Q5/06 ,  A61K8/81 ,  A61K8/87 ,  A61K8/73 ,  A61K8/37
F-Term (28)：
4C083AA121 ,  4C083AA122 ,  4C083AB032 ,  4C083AB282 ,  4C083AC011 ,  4C083AC012 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC131 ,  4C083AC132 ,  4C083AC182 ,  4C083AC242 ,  4C083AC262 ,  4C083AC351 ,  4C083AC352 ,  4C083AC402 ,  4C083AC422 ,  4C083AC532 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD132 ,  4C083AD162 ,  4C083AD191 ,  4C083AD282 ,  4C083CC32 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE28
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 毛髪化粧料組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-365248   Applicant：株式会社マンダム
  • 整髪剤
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-251680   Applicant：株式会社マンダム
  • 整髪料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121778   Applicant：株式会社資生堂
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Cited by examiner (5)
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-245086   Applicant：株式会社資生堂
  • 整髪料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-121778   Applicant：株式会社資生堂
  • 整髪剤組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-254903   Applicant：ホーユー株式会社
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