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J-GLOBAL ID:201003064603006792

溶存水素飲料水の製造装置及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 水野 勝文 ,  岸田 正行 ,  高野 弘晋
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008268671
Publication number (International publication number):2010094622
Application date: Oct. 17, 2008
Publication date: Apr. 30, 2010
Summary:
【課題】 家庭用での飲用に適し、溶存水素濃度が高く、溶存水素の寿命の長い溶存水素飲料水を製造する装置を提供する。【解決手段】 50μS/cm以下の電導度の高純度水を供給して、pHが2.5から8.5の範囲で特に5.8から8.5の範囲で溶存水素濃度が0.1ppm以上の飲料水を生成するための通水型の電解槽を組み込んだ溶存水素飲料水製造装置であって、該電解槽は透水性の板状アノード極を有する縦型のアノード室と板状カソード極を有する縦型のカソード室からなり、該アノード室と該カソード室はフッ素系カチオン交換膜からなる隔膜で隔離され、フッ素系カチオン交換膜からなる隔膜に透水性の板状アノード極を密着させ、該隔膜とカソード極の間の空間にイオン交換樹脂を充填した構造を有することを特徴とする溶存水素飲料水製造装置。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
50μS/cm以下の電導度の高純度水を供給して、pHが2.5から8.5の範囲で特に5.8から8.5の範囲で溶存水素濃度が0.1ppm以上の飲料水を生成するための通水型の電解槽を組み込んだ溶存水素飲料水製造装置であって、該電解槽は透水性の板状アノード極を有する縦型のアノード室と板状カソード極を有する縦型のカソード室からなり、該アノード室と該カソード室はフッ素系カチオン交換膜からなる隔膜で隔離され、フッ素系カチオン交換膜からなる隔膜に透水性の板状アノード極を密着させ、該隔膜とカソード極の間の空間にイオン交換樹脂を充填した構造を有することを特徴とする溶存水素飲料水製造装置。
IPC (5):
C02F 1/46 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/44
FI (6):
C02F1/46 Z ,  C02F1/20 A ,  C02F1/42 A ,  C02F1/28 D ,  C02F1/28 F ,  C02F1/44 H
F-Term (64):
4D006GA03 ,  4D006GA07 ,  4D006GA32 ,  4D006HA95 ,  4D006KA01 ,  4D006KA26 ,  4D006KA57 ,  4D006KA72 ,  4D006KB01 ,  4D006KB11 ,  4D006KB12 ,  4D006KB14 ,  4D006MB02 ,  4D006MC05 ,  4D006PA01 ,  4D006PB06 ,  4D006PC52 ,  4D025AA03 ,  4D025AB19 ,  4D025BA08 ,  4D025BB11 ,  4D025BB18 ,  4D025DA01 ,  4D025DA03 ,  4D025DA04 ,  4D025DA05 ,  4D025DA06 ,  4D025DA10 ,  4D037AA02 ,  4D037AB11 ,  4D037AB12 ,  4D037BA18 ,  4D037BA23 ,  4D037CA02 ,  4D037CA03 ,  4D037CA04 ,  4D037CA14 ,  4D037CA15 ,  4D061DA03 ,  4D061DB09 ,  4D061EA02 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB30 ,  4D061EB35 ,  4D061EB39 ,  4D061FA03 ,  4D061FA07 ,  4D061FA08 ,  4D061FA09 ,  4D061FA13 ,  4D061GC05 ,  4D061GC12 ,  4D624AA02 ,  4D624BA02 ,  4D624CA13 ,  4D624CB72A ,  4D624DB01 ,  4D624DB03 ,  4D624DB04 ,  4D624DB05 ,  4D624DB09 ,  4D624DB10 ,  4D624DB19
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
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