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J-GLOBAL ID：201003067769549041

構造因子テンソル要素決定法及びそのためのX線回折装置利用法

Inventor： 大隅 寛幸 ,  高田 昌樹 ,  壽榮松 宏仁 ,  藤縄 剛
Applicant, Patent owner： 財団法人高輝度光科学研究センター ,  株式会社リガク
Agent (6)： 小野 新次郎 ,  社本 一夫 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  平山 晃二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010027415
Publication number (International publication number)：2010117365
Application date： Feb. 10, 2010
Publication date： May. 27, 2010
Summary：

【課題】物質の構造因子テンソルの決定に必要なX線領域の偏光解析の方法は既に提案されているが、構造因子テンソルの迅速決定および測定感度向上のために、偏光解析結晶を用いる場合には、種々の問題を解決しなければならない。【解決手段】試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定する方法。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

試料からの散乱X線強度の入射偏光依存性を測定・解析することで、偏光解析結晶を使用することなく構造因子テンソルを決定することを特徴とする方法。

IPC (1)：

G01N 23/20

FI (1)：

G01N23/20

F-Term (14)：

2G001AA01 ,  2G001BA14 ,  2G001BA18 ,  2G001BA28 ,  2G001CA01 ,  2G001GA01 ,  2G001GA07 ,  2G001GA13 ,  2G001KA12 ,  2G001LA02 ,  2G001LA20 ,  2G001NA15 ,  2G001NA17 ,  2G001RA03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• X線偏光分析器及びそのX線偏光分析方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-343259   Applicant：日本電気株式会社
• 残留オーステナイト体積率の定量方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-286372   Applicant：住友金属工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• BL46XU R&D(2)