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J-GLOBAL ID：201003071309500831

リン含有ベータ型ゼオライトの製造方法

Inventor： 板橋 慶治 ,  大久保 達也 ,  シャンムガム パラニ エランゴバン
Applicant, Patent owner： 日本化学工業株式会社 ,  国立大学法人 東京大学
Agent (2)： 羽鳥 修 ,  松嶋 善之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009115030
Publication number (International publication number)：2010260777
Application date： May. 11, 2009
Publication date： Nov. 18, 2010
Summary：

【課題】結晶構造安定性や水熱安定性が向上したベータ型ゼオライトを製造する方法を提供すること。【解決手段】本発明のリン含有ベータ型ゼオライトの製造方法は、以下に示すモル比で表される組成の反応混合物となるように、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源、4級アルキルホスホニウム化合物、テトラエチルアンモニウム化合物、アルカリ金属源及び水を混合し、 SiO2/Al2O3=10〜1000 R4PX/SiO2=0.01〜1 TEAX/SiO2=0〜0.5 OH-/SiO2=0.1〜0.8 M+/SiO2=0〜0.5 H2O/SiO2=3〜50(式中、R4Pは4級アルキルホスホニウムイオンを表し、Xは一価のアニオンを表し、TEAはテトラエチルアンモニウムイオンを表し、M+はアルカリ金属イオンを表す。) 次いで、得られた反応混合物を、密閉容器中で100〜250°Cの温度で加熱する工程を有することを特徴とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

以下に示すモル比で表される組成の反応混合物となるように、シリカ源、アルミナ源、アルカリ源、4級アルキルホスホニウム化合物、テトラエチルアンモニウム化合物、アルカリ金属源及び水を混合し、 SiO2/Al2O3=10〜1000 R4PX/SiO2=0.01〜1 TEAX/SiO2=0〜0.5 OH-/SiO2=0.1〜0.8 M+/SiO2=0〜0.5 H2O/SiO2=3〜50 (式中、R4Pは4級アルキルホスホニウムイオンを表し、Xは一価のアニオンを表し、TEAはテトラエチルアンモニウムイオンを表し、M+はアルカリ金属イオンを表す。) 次いで、得られた反応混合物を、密閉容器中で100〜250°Cの温度で加熱する工程を有することを特徴とするリン含有ベータ型ゼオライトの製造方法。

IPC (1)：

C01B 39/48

FI (1)：

C01B39/48

F-Term (26)：

4G073BA02 ,  4G073BA04 ,  4G073BA63 ,  4G073BA69 ,  4G073BA70 ,  4G073BA75 ,  4G073BB48 ,  4G073BB63 ,  4G073BD21 ,  4G073CZ25 ,  4G073FA01 ,  4G073FB11 ,  4G073FB24 ,  4G073FB26 ,  4G073FC18 ,  4G073FC19 ,  4G073FC25 ,  4G073FC30 ,  4G073FD24 ,  4G073FF06 ,  4G073FF07 ,  4G073GA01 ,  4G073GA03 ,  4G073GA12 ,  4G073UA01 ,  4G073UA06