溶液中の単層および多層グラフェンの安定な分散系

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：山川政樹 , 山川茂樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010120481
Publication number (International publication number)：2010275186
Application date： May. 26, 2010
Publication date： Dec. 09, 2010
Summary：

【課題】溶液中で安定なグラフェンのコロイド分散系、特に、分散剤を必要としないコロイドのグラフェン分散系を生成するための方法を提供すること。【解決手段】コロイドのグラフェン分散系を生成するための方法であって、(i)分散媒中にグラファイト酸化物を分散させることによって、コロイドのグラフェン酸化物またはマルチグラフェン酸化物分散系を形成するステップと、(ii)分散系中のグラフェン酸化物またはマルチグラフェン酸化物を熱還元するステップとを含む方法が開示されている。出発分散系を調製するために使用される方法に応じて、グラフェンまたはマルチグラフェン分散系が得られ、これは、さらに処理することによって、グラファイトより大きい面間距離を有するマルチグラフェンにすることができる。そのような分散系およびマルチグラフェンは、例えば、充電式リチウムイオン電池の製造において適切な材料である。

Claim (excerpt)：

コロイドのグラフェン分散系またはマルチグラフェン分散系を生成するための方法であって、 (i)分散媒中にグラファイト酸化物を分散させることによって、コロイドのグラフェン酸化物分散系またはマルチグラフェン酸化物分散系を形成するステップと (ii)分散系中の前記グラフェン酸化物またはマルチグラフェン酸化物を熱還元するステップとを含む方法。

IPC (8)：

C01B 31/04 , H01B 1/04 , H01B 1/24 , H01B 13/00 , H01M 4/587 , H01M 4/139 , B01J 13/00 , C01B 31/02

FI (8)：

C01B31/04 101Z , H01B1/04 , H01B1/24 Z , H01B13/00 Z , H01M4/58 103 , H01M4/02 111 , B01J13/00 B , C01B31/02 101Z

F-Term (48)：

4G065AA01 , 4G065AA08 , 4G065AB16X , 4G065BA15 , 4G065BB01 , 4G065BB06 , 4G065CA11 , 4G065DA09 , 4G065EA01 , 4G065EA03 , 4G065EA05 , 4G065EA06 , 4G065FA01 , 4G065FA03 , 4G146AA02 , 4G146AA15 , 4G146AD25 , 4G146BA08 , 4G146BA20 , 4G146BA42 , 4G146BA49 , 4G146BB01 , 4G146BB14 , 4G146BC02 , 4G146BC04 , 4G146BC19 , 4G146BC28 , 4G146BC32A , 4G146BC32B , 4G146CA15 , 4G146CA20 , 5G301BA02 , 5G301BE01 , 5G301DA19 , 5G301DA42 , 5G301DD02 , 5H050AA19 , 5H050BA17 , 5H050CB07 , 5H050DA04 , 5H050DA11 , 5H050DA18 , 5H050FA17 , 5H050GA02 , 5H050GA10 , 5H050GA15 , 5H050GA22 , 5H050GA27

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

炭素からなる骨格を持つ薄膜状粒子の還元方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-254023 Applicant：三菱瓦斯化学株式会社
炭素構造体及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-096815 Applicant：日立粉末冶金株式会社, 日産自動車株式会社
電極用炭素材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-061301 Applicant：三菱化学株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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