Pat

J-GLOBAL ID：201003076912489399

スフェロイド作製方法

Inventor： 中面 哲也 ,  小澤 ふじ子 ,  坂本 るり子 ,  田中 覚
Applicant, Patent owner： SCIVAX株式会社
Agent (1)： 奥田 律次
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009142819
Publication number (International publication number)：2010022366
Application date： Jun. 15, 2009
Publication date： Feb. 04, 2010
Summary：

【課題】 二次元培養において増殖速度の異なる2種以上の細胞が存在する場合に、増殖速度の遅い細胞が駆逐されることなく、2種以上の細胞が共存して増殖することができる、スフェロイドの作製方法を提供すること。【解決手段】 細胞接着面として機能する所定の凹凸構造を有する細胞培養基材上で2種以上の細胞を培養することにより、二次元培養用基材上では増殖速度が異なる2種以上の細胞が共存するスフェロイドを形成することが可能となる。この際、凹凸構造面は、所定の平面形状からなるセルを規則的に複数配列した凹凸構造である方が好ましい。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

細胞接着面として機能する所定の凹凸構造を有する細胞培養基材上で2種以上の細胞を培養することを特徴とするスフェロイド作製方法。

IPC (1)：

C12N 5/07

FI (1)：

C12N5/00 E

F-Term (9)：

4B029AA08 ,  4B029BB11 ,  4B029CC08 ,  4B029GA01 ,  4B029GA03 ,  4B065AA91X ,  4B065AA93X ,  4B065BC41 ,  4B065CA44

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 新規スフェロイド及びスフェロイドの製造方法、薬剤スクリーニング、毒性評価、病体モデル動物の製造へのスフェロイドの使用、スフェロイド細胞培養キット、抗体のスフェロイド形成のための使用、レクチンのスフェロイド形成のための使用、細胞接着分子のスフェロイド形成のための使用
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-197117   Applicant：SCIVAX株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• Int.J.Exp.Pathol.,Vol.79(1998)p.1-23