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J-GLOBAL ID：201003077320664461
組織処置装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
柳原 成
, 宮部 岳志
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2010514099
Publication number (International publication number)：2010531184
Application date： Jun. 24, 2008
Publication date： Sep. 24, 2010
Summary：
皮膚リサーフェイシングのための組織処置装置であって、rf(無線波)発生装置に接続された電極を持つ手持式の処置器具を有するものにおいて、プラズマジェットが器具内のガス導管を通過するイオン化可能ガスにより形成され、そのプラズマは導管の末端部のノズルから現れる。器具内には光学的検出器が組み込まれ、プラズマによって放出された放射を、導管内から直接受信して出力信号を形成し、その出力信号は器具へのrfエネルギーの適用開始後の予め定められた時間内に放射がない場合、または放射がrfエネルギー適用期間中ほぼ一定ではないときに、故障状態を示すように処理される。【選択図】図2
Claim (excerpt)：
rf(無線波)発生装置、処置器具および光学的分析デバイスを含む組織処置装置であって、
前記処置器具はガス導管を有し、このガス導管はプラズマ出射ノズル内で終端し、かつイオン化可能ガス源に接続可能とされており、また前記処置器具は前記導管に結合する一対の電極を有し、この電極は前記発生装置に接続可能であり、発生装置によってrf電圧によりエネルギー付与されると導管内に電界を形成し、それにより器具にガスが供給されたとき導管を通して流れるイオン化可能ガス内にプラズマを生成するように構成され、
前記光学的分析デバイスは:
プラズマによって放出された放射を、導管内から直接受信するように構成された少なくとも1個の光学的検出器;
この少なくとも1個の光学的検出器からの出力信号を処理し、出力信号の表示を参照表示と比較し、そして予め決められた比較結果に応答して、装置内の故障を表示する故障信号を発生させるプロセッサステージ;および
この故障信号に応答して発生装置によるrfエネルギーの発生を制御する制御ステージを含む装置。
IPC (1)：
FI (1)：
F-Term (4)：
4C160JK01
, 4C160KL03
, 4C160KL06
, 4C160MM22
