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J-GLOBAL ID：201003078869034865

ヒータ、基板加熱装置およびこれを用いる結晶成長装置

Inventor： 田中 正昭 ,  山根 貴好 ,  針 田 鴻一
Applicant, Patent owner： 創研工業株式会社
Agent (2)： 梶山 佶是 ,  山本 富士男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008201077
Publication number (International publication number)：2010040718
Application date： Aug. 04, 2008
Publication date： Feb. 18, 2010
Summary：

【課題】 高温加熱してもヒータ寿命が長いヒータ、そしてヒータ交換が容易でかつ小型な基板加熱装置およびこれを用いる結晶成長装置を提供することにある。【解決手段】 この発明は、カップの底面と側面とに渡って連続するヒータパターンを設けることで、電力を供給するヒータの長さを長くすることができる。それにより、ヒータの抵抗値を増加させて電流密度の低減を図ることができ、低電圧、大電流となることを抑制しかつ発熱量を大きくすることができる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

カップ型のヒータであって、カップの底面から側面に渡って連続するヒータパターンが形成され、前記ヒータパターンの両端部が前記側面あるいは前記底面に配置されているヒータ。

IPC (4)：

H01L 21/205 ,  H05B 3/10 ,  H05B 3/14 ,  H05B 3/03

FI (4)：

H01L21/205 ,  H05B3/10 A ,  H05B3/14 F ,  H05B3/03

F-Term (26)：

3K092QA10 ,  3K092QB14 ,  3K092QB40 ,  3K092QB44 ,  3K092QB65 ,  3K092QB73 ,  3K092QC02 ,  3K092QC21 ,  3K092QC42 ,  3K092QC59 ,  3K092VV03 ,  3K092VV15 ,  3K092VV22 ,  3K092VV31 ,  3K092VV34 ,  5F045AA02 ,  5F045AA04 ,  5F045AD16 ,  5F045AD17 ,  5F045AD18 ,  5F045BB08 ,  5F045BB10 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ05 ,  5F045EK07 ,  5F045EK08

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 結晶成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-072141   Applicant：農工大ティー・エル・オー株式会社

Cited by examiner (3)

• 加熱装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-253255   Applicant：東芝機械株式会社
• 特開平3-235325
  
• セラミックスヒータ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-357569   Applicant：信越化学工業株式会社