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J-GLOBAL ID:201003079702708127
位置決め制御装置及びレーザ加工機
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
藤元 亮輔
, 水本 敦也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008266113
Publication number (International publication number):2010097310
Application date: Oct. 15, 2008
Publication date: Apr. 30, 2010
Summary:
【課題】 位置決め時間を短くする位置決め制御装置を提供する。【解決手段】 モータの位置決め制御を行う閉ループ制御系の位置決め制御装置100であって、モータの目標位置が入力される目標位置入力ブロック1と、モータの実位置及び実速度をフィードバックして、目標位置入力ブロック1に入力された目標位置とモータの実位置との偏差に応じた第一の目標指令信号を生成する制御則A(17a)と、モータの実位置及び実速度をフィードバックして、目標位置とモータの実位置との偏差に応じた第二の目標指令信号を生成する制御則B(17b)と、目標位置に応じて、第一の目標指令信号と第二の目標指令信号とのいずれかをモータに入力するように切り替えるスイッチブロック5とを有し、制御則A及び制御則Bは、閉ループ制御系の極配置が互いに異なるように設定されている。【選択図】図1
Claim (excerpt):
モータの位置決め制御を行う閉ループ制御系の位置決め制御装置であって、
IPC (5):
G05B 7/02
, G05B 13/02
, B23K 26/02
, B23K 26/00
, G05B 19/19
FI (5):
G05B7/02 A
, G05B13/02 P
, B23K26/02 A
, B23K26/00 M
, G05B19/19 P
F-Term (22):
3C269AB11
, 3C269BB05
, 3C269CC01
, 3C269DD01
, 3C269EF02
, 3C269EF05
, 3C269GG01
, 3C269GG05
, 3C269JJ10
, 4E068CB01
, 4E068CC05
, 4E068CC06
, 4E068CE02
, 5H004GA05
, 5H004GB15
, 5H004HA07
, 5H004HB07
, 5H004HB08
, 5H004KA66
, 5H004KA69
, 5H004KB04
, 5H004KB27
Patent cited by the Patent:
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