位相差板および表示装置

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：藤島洋一郎 , 三反崎泰司 , 長谷部政男 , 田名網孝昭
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2010150024
Publication number (International publication number)：2010266887
Application date： Jun. 30, 2010
Publication date： Nov. 25, 2010
Summary：

【課題】簡易な工程で製造することができると共に、光利用効率の低下を抑制することが可能な位相差板を提供する。【解決手段】位相差板10は、溝領域11A,11Bがストライプ状に交互にパターニングされた基板11の表面に接して位相差層12が形成されたものである。溝領域11A,11Bはそれぞれ、方向d1,d2に延在する複数の溝111a,111bからなる。位相差層12は、溝領域11A,11Bに対応して位相差領域12a,12bを有し、位相差領域12a,12bではそれぞれ、溝の延在方向d1,d2に沿って液晶分子120が配向する。溝領域11A,11Bは、周期構造を有しており、その周期構造は、凹凸のピッチにおいて2〜10%の広がりを有し、凹凸の角度において3〜8°の広がりを有している。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

特定の方向に延在する複数の溝を表面に有する基板と、前記基板の表面に接して設けられ、前記複数の溝の延在方向に沿って配向すると共に重合した液晶材料を含む位相差層とを備え、前記複数の溝によって形成されたパターンは、周期構造を有し、前記周期構造は、凹凸のピッチにおいて2〜10%の広がりを有し、凹凸の角度において3〜8°の広がりを有する位相差板。

IPC (3)：

G02B 5/30 , G02F 1/133 , H04N 13/04

FI (3)：

G02B5/30 , G02F1/13363 , H04N13/04

F-Term (54)：

2H149AA02 , 2H149AA20 , 2H149AB03 , 2H149AB26 , 2H149BA02 , 2H149DA02 , 2H149DA12 , 2H149DB03 , 2H149DB15 , 2H149EA02 , 2H149EA19 , 2H149FA22Y , 2H149FA24Y , 2H149FA58Y , 2H149FB03 , 2H149FB04 , 2H149FC02 , 2H149FD46 , 2H149FD48 , 2H191FA02Y , 2H191FA22X , 2H191FA22Z , 2H191FA30X , 2H191FA30Y , 2H191FA30Z , 2H191FA31Y , 2H191FA82Z , 2H191FA85Z , 2H191FB02 , 2H191FB05 , 2H191FC13 , 2H191FC33 , 2H191FC34 , 2H191FC41 , 2H191FD09 , 2H191FD12 , 2H191FD22 , 2H191FD35 , 2H191HA11 , 2H191LA13 , 2H191LA27 , 2H191LA31 , 2H191MA01 , 2H191NA12 , 2H191NA19 , 2H191PA03 , 2H191PA06 , 2H191PA42 , 2H191PA44 , 2H191PA60 , 2H191PA62 , 2H191PA85 , 5C061AA02 , 5C061AB17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (12)

パターン化した光学素子の製造方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2003-562682 Applicant：エピジェムリミテッド
パターン化されたパッシブ位相板の製造方法およびその方法により製造された位相板
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-354441 Applicant：シャープ株式会社
波長板、立体画像表示装置、及び波長板の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-207239 Applicant：株式会社リコー

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