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J-GLOBAL ID：201003081253067540

金属と配位結合する被膜形成材料

Inventor： ティモシー ディッセンバー ,  セルジオ ゴンザレス ,  ギュンター オット ,  カール-ハインツ グローセ-ブリンクハウス
Applicant, Patent owner： ビー・エイ・エス・エフ、コーポレーション
Agent (8)： 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  高橋 佳大 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2009534730
Publication number (International publication number)：2010508396
Application date： Aug. 13, 2007
Publication date： Mar. 18, 2010
Summary：

被膜形成材料は、非イオン性金属配位構造を含み、非イオン性金属配位構造は、金属、例えば金属触媒や金属基板などに配位結合することができる。実施例の被膜形成材料は、多官能性エポキシドと非イオン性金属配位構造を有する求核性配位子との生成物、又は多官能性アルコールと非イオン性金属配位構造を有する求電子性配位子との生成物であり得る。

Claim (excerpt)：

非イオン性金属配位構造を有する少なくとも1つのペンダント基と、架橋剤に対して反応性の少なくとも1つの基とを有する樹脂を含む被膜形成材料。

IPC (9)：

C09D 201/00 ,  C09D 163/00 ,  C09D 133/00 ,  C09D 175/04 ,  C09D 169/00 ,  C09D 183/04 ,  C09D 161/20 ,  C09D 167/00 ,  C09D 7/12

FI (9)：

C09D201/00 ,  C09D163/00 ,  C09D133/00 ,  C09D175/04 ,  C09D169/00 ,  C09D183/04 ,  C09D161/20 ,  C09D167/00 ,  C09D7/12

F-Term (23)：

4J038CG011 ,  4J038CG041 ,  4J038CG131 ,  4J038DB061 ,  4J038DD051 ,  4J038DG261 ,  4J038DG301 ,  4J038GA03 ,  4J038GA06 ,  4J038GA07 ,  4J038GA09 ,  4J038HA186 ,  4J038HA216 ,  4J038JB03 ,  4J038JB09 ,  4J038JC38 ,  4J038JC39 ,  4J038JC40 ,  4J038KA03 ,  4J038KA08 ,  4J038MA08 ,  4J038MA10 ,  4J038PA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開平2-265974
  
• 特開昭57-119920
  
• 特開平4-081474
  
• ブロックトポリイソシアネートを含む調剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-183695   Applicant：バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト
• 特開昭58-109569
  
• 金属と配位結合する被膜形成材料
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2009-534731   Applicant：ビー・エイ・エス・エフコーポレーション
• 金属と配位結合する被膜形成材料を含むコーティングの製造方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2009-534732   Applicant：ビー・エイ・エス・エフコーポレーション